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以需求為原則,重新定義薄膜沉積裝備的價值

來源: 發(fā)布時間:2026-05-31

PVD Products 的磁控濺射系統(tǒng)不僅服務(wù)于基礎(chǔ)科研,還延伸至工業(yè)化生產(chǎn)領(lǐng)域??祁TO(shè)備有限公司作為 PVD Products 在國內(nèi)官方授權(quán)合作伙伴,全權(quán)負(fù)責(zé)該品牌全系設(shè)備的國內(nèi)銷售、方案定制、安裝調(diào)試與技術(shù)服務(wù),將國際先進的磁控濺射技術(shù)引入國內(nèi)市場。

公司在卷對卷沉積系統(tǒng)中集成的多道磁控濺射技術(shù),已應(yīng)用于高溫超導(dǎo)帶材的公里級生產(chǎn)。通過閉環(huán)張力控制和離子束輔助沉積技術(shù)的結(jié)合,該系統(tǒng)確保柔性金屬帶材在高速運行下保持形變控制和沉積均勻性,單機可處理 1 公里長的帶材。這一能力使得超導(dǎo)電力電纜、高磁場磁體等能源應(yīng)用的材料成本明顯降低。依托雙方的深度合作,科睿設(shè)備有限公司可結(jié)合國內(nèi)高溫超導(dǎo)產(chǎn)業(yè)的量產(chǎn)需求,提供整套卷對卷濺射產(chǎn)線規(guī)劃、現(xiàn)場集成與工藝優(yōu)化服務(wù),助力國內(nèi)企業(yè)實現(xiàn)超導(dǎo)帶材規(guī)?;⒌统杀旧a(chǎn)。

在薄膜沉積技術(shù)日益融合的趨勢下,PVD Products 將磁控濺射與其他沉積技術(shù)結(jié)合,開發(fā)出復(fù)合工藝系統(tǒng)。例如,在電子束蒸發(fā)系統(tǒng)中集成離子束輔助沉積模塊,使得設(shè)備能夠處理非標(biāo)準(zhǔn)形狀基底的復(fù)雜涂層需求。這種技術(shù)整合能力為客戶提供了一站式工藝解決方案,減少了多設(shè)備切換帶來的基底污染和工藝不連續(xù)性風(fēng)險。

對于需要在極端真空條件下進行原位研究的應(yīng)用場景,PVD Products 還開發(fā)了與同步輻射光束線聯(lián)用的磁控濺射系統(tǒng),該系統(tǒng)已應(yīng)用于德國 PETRA III 等大型科學(xué)裝置,支持薄膜生長過程的實時結(jié)構(gòu)表征。

通過持續(xù)的技術(shù)創(chuàng)新和客戶需求響應(yīng),PVD Products 在磁控濺射領(lǐng)域建立了從組分篩選、外延生長到工業(yè)化生產(chǎn)的完整技術(shù)鏈條。其定制化設(shè)計理念和工程化實施能力,為材料科學(xué)研究和先進制造產(chǎn)業(yè)提供了可靠的工藝裝備支撐。

在全球薄膜沉積技術(shù)持續(xù)演進的背景下,這種以客戶痛點為導(dǎo)向的解決方案正在重新定義設(shè)備供應(yīng)商的價值創(chuàng)造模式。未來,科睿設(shè)備將持續(xù)深化與 PVD Products 的合作,持續(xù)引進前沿薄膜沉積技術(shù)與裝備,聯(lián)動海內(nèi)外技術(shù)資源,為國內(nèi)薄膜沉積、高溫超導(dǎo)、半導(dǎo)體、新材料等領(lǐng)域的發(fā)展持續(xù)賦能。

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